Правильная ссылка на эту страницу
http://az-design.ru/Support/Archiv/Elc1980/B19800327Elc015.shtml

Электронно-лучевая установка для проверки фотошаблонов

Чарлз Коэн
Заведующий токийского бюро Electronics

Установка со сканирующим электронным микроскопом в течение часа измеряет до 10 тыс. элементов размером до 0,5 мкм.

То самое обстоятельство, которое ограничивает возможность использования оптических методов для получения рисунка схем с линиями малой ширины, а именно длина волны светового излучения, не позволяет использовать эти методы для контроля шаблонов, предназначенных для изготовления таких схем. Эту задачу можно решить с помощью электронно-лучевых систем.

Японская объединенная лаборатория по разработке СБИС спроектировала экспериментальную систему со сканирующим электронным микроскопом, а фирма Hitachi Ltd. изготовила ее. Возможно, после некоторого усовершенствования она станет первой коммерческой системой такого типа.

Стеклянные шаблоны. В продажу уже поступили, правда в ограниченном количестве, стеклянные шаблоны, позволяющие избежать накопления заряда при сканировании электронным лучом: они были разработаны в рамках проекта фирмой Konishiroku Photo Industry Co., специализирующейся на изготовлении пленочных покрытий. Эти шаблоны удобны для использования не только в сочетании с электронно-лучевым методом контроля, так как они не притягивают пыль и не подвержены высоковольтным разрядам, которые, как полагают, разрушают шаблоны. Нанесенное на стекло проводящее покрытие толщиной 10 нм вносит световые потери всего 17% на длине волны 200 нм и 6% на длине волны 350 нм.

Система может автоматически производить до 10 тыс. прецизионных измерений в час на шаблоне со стороной 102 мм; несколько больше времени может потребоваться для выполнения того же числа операций на шаблоне максимально допустимого для данной системы размера, 127*127 мм. Для проверки одного шаблона мо- жет потребоваться до 25 тыс. измерений. Система может измерять ширину линий до 0,5 мкм с воспроизводимостью ±0,03 мкм (3σ и их положение с погрешностью до ±0,2 мкм (3σ).

Конструкция экспериментальной системы позволяет направлять луч в любую точку площадки размером 1640X1640 мкм с разрешением 16 бит, или 0,02 мкм. Собственно говоря, 6 бит информации используются для позиционирования луча, а 10 бит — для сканирования, что дает максимальную ширину сканирования 25 мкм. Установка луча за пределами его возможного отклонения производится путем перемещения рабочего столика. Столик может перемещаться на 150 мм в направлении X и на 110 мм в направлении Y. Положение столика контролируется с помощью лазера с погрешностью не более 0,008 мкм.


Рис.1. Установка со сканирующим электронным микроскопом, разработанная совместно объединенной лабораторией по разработке СБИС и фирмой Hitachi, позволяет наблюдать и измерять линии шириной 0,5 мкм. На фотографии показаны части фотошаблона, которые оператор может видеть на пульте управления.

Системой управляет 16-бит микрокомпьютер Hitac-20 фирмы Hitachi с основной памятью емкостью 64 тыс. слов и дисковым накопителем на 4,9 млн. слов. Управление системным пультом осуществляет микропроцессор 6800 фирмы Hitachi. Электронно-лучевая колонна, в которой используется эмиттер из гексаборида лантана, имеет максимальное ускоряющее напряжение 20000 В [р.73].

Выходные данные:

Журнал "Электроника" том 53, No.07 (585), 1980г - пер. с англ. М.: Мир, 1980, стр.15

Electronics Vol.53 No.07 March 27, 1980 A McGraw-Hill Publication

Раздел: ЭЛЕКТРОНИКА ЗА РУБЕЖОМ

Тема:     Япония




<<< Пред. Оглавление
Начало раздела
След. >>>

Дата последнего изменения:
Thursday, 21-Aug-2014 09:10:44 MSK


Постоянный адрес статьи:
http://az-design.ru/Support/Archiv/Elc1980/B19800327Elc015.shtml